SENTECH 仪器有限公司、柏林工业大学、柏林亥姆霍兹材料与能源中心有限公司、德国联邦物理技术研究院（PTB）共同携手合作的联合研究提案已被批准用于柏林 IBB 投资银行的 ProFIT 计划（促进研究、创新、技术的计划）。

在开展OptiRefS 项目（技术层系统的光学参考数据）的三年期间，他们将开发用于在 200纳米以下波长范围内对薄膜层进行椭圆测量的新型参考物质，例如纹理硅表面和超薄二维石墨层。

通过使用 PTB 计量光源 MLS的真空紫外 (VUV-) 椭偏仪，可以确定具有可靠不确定度的相应光学常数。由于 VUV 光谱范围内的测量具有极高的表面敏感性，因此测量质量会受到分子污染等表面效应的限制，导致这些范围缺乏有效数据。

在混合计量方法中使用互补测量技术和数值建模，就可通过定量识别、校正干扰效应来解决这些缺点，从而能够可靠地提供光学材料参数。